以下是SiO2/Si衬底的照片：
氧化层厚度和SiO2/Si颜色对照表
以下图片为公司IC百级超净室内实拍，所有硅片加工、分装均在IC超净室内进行，保证产品质量，因为专业所以质优！
常见的各种氧化工艺
热氧化法-将硅片置于高温下，通以氧化的气氛，使硅表面一薄层的硅转变为二氧化硅的方法。
常见的热氧化工艺类别及特点：
1、干氧氧化：
干氧氧化法-氧化气氛为干燥、纯净的氧气。氧化膜致密、针孔密度小、适合光刻、质量，但氧化速度Zui慢，成本Zui高。
2、水汽氧化：
水汽氧化法-氧化气氛为纯净的水汽。氧化速度Zui快，但氧化膜疏松，针孔密度大，质量Zui差，光刻容易浮胶。
3、湿氧氧化：
湿氧氧化法-氧化气氛为纯净的氧气+纯净的氢气。氧化膜质量和氧化速度均介于干氧氧化和水汽氧化之间，质量也介于二者之间。
三种热氧化方式，干氧氧化的氧化层质量，成本Zui高；我司的硅片氧化层500nm以下采用纯干氧氧化，氧化层品质，绝缘性非常好，且采用我司独创新型专利氧化工艺技术，氧化层中缺陷与电荷Zui少，同时硅片的价格优惠，期待与广大新老客户合作双赢；（如500nm以下客户要求采用湿氧氧化也可以）
SIO2-SI衬底CVD-MOS2，WS2生长实例：
CVD-WS2
CVD-MOS2单层连续薄膜
CVD-三角形MOS2
产品信息：
产品名称 （单抛光）商品编码货号尺寸P或N型氧化层厚度氧化硅片SIO2硅片 单抛光MK英寸P型/N型50氧化硅片SIO2硅片 单抛光MK英寸P型/N型80氧化硅片SIO2硅片 单抛光MK英寸P型/N型100氧化硅片SIO2硅片 单抛光MK英寸P型/N型200氧化硅片SIO2硅片 单抛光MK英寸P型/N型300氧化硅片SIO2硅片 单抛光MK英寸P型/N型500氧化硅片SIO2硅片 单抛光MK英寸P型/N型1000氧化硅片SIO2硅片 单抛光MK英寸P型/N型2000氧化硅片SIO2硅片 单抛光MK英寸P型/N型3000
更新时间
南京牧科纳米科技有限公司已认证
- 统一社会信用代码
- 320121000382113
- 成立日期
- 2015年05月14日
- 法定代表人
- 蒋连福
- 注册资本
- 50万元
主营产品
石墨烯材料，类石墨烯材料，纳米材料的制备和研发
经营范围
纳米材料的研发以及相关产品的销售、技术服务；节能环保产品的研发、销售、技术开发、技术咨询、技术服务；实验仪器测试技术开发、技术服务、技术转让；化工产品、实验器材、仪器仪表、机电产品、日用百货、塑料用品、文化用品、办公器材、玻璃仪器销售（涉及许可项目除外）；自营和代理各类商品及技术的进出口业务（国家限定企业经营或禁止进出口的商品和技术除外）。（依法须经批准的项
公司简介
南京牧科纳米科技有限公司目前主要由10位具有海外留学经历和国内顶尖研究课题组多年研究经验的博士团队组成。牧科是国内唯一一家专门从事二维材料单晶cvd合成和二维半导体纳米片溶液及冷干粉末合成的（类石墨烯类材料）合成与研发的专业技术咨询和服务的纳米科技公司。自公司成立以来，在社会各界的关心支持下，公司现不断发展壮大，与欧洲、美国，荷兰及国内知名科研院所和实验室都有紧密的合作关系。公司现有产品主要包括：（1）各类人工合成二元、三元和四元二维...