该纯离子镀膜设备(如图)主要是集纯离子镀膜技术(PIC)、高能离子束清洗技术(IONBEAM)和磁控溅射技术(SPUTTER)三种技术融合于一体，其独有的纯离子镀膜源核心技术，利用高效的电磁过滤系统和电磁扫描系统，有效过滤掉中性粒子、大颗粒离子团等杂质，大幅度提高等离子体束流纯度，使膜层更加致密，硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性也更优异。可以镀制厚度范围从100nm-28μm的超级类金刚石Ta-C膜层。
PIS624设备配置
设备型号 | PIS624 |
镀膜源类型 | 纯离子镀膜源、高能离子束清洗源、磁控溅射源 |
极限真空（清洁空载条件下）/漏率 | ≤5×10-4Pa/≤5×10-10Pa•m3/s |
抽气速率 | <30分钟(真空度5x10-3Pa，空载) |
有效镀膜范围(mm) | Φ1000*H800 |
可选配套电源 | 直流、脉冲直流、中频、射频、高功率脉冲等 |
工艺气体 | Ar，C2H2，N2，O2等 |
靶材匹配 | 石墨靶、Cr、Ti、Ni、Cu、Ta、Zr、W等金属单质或合金靶 |
真空系统 | 机械泵+罗茨泵+分子泵 |
控制方式 | PLC+上位机 |
设备功率 | 70KW |
设备占地（mm） | L5000×W4000×H3100 |
配套要求 | 循环水压力：0.2-0.4MPa，压缩空气：0.6-0.7MPa |
设备优势：
➢电磁过滤系统可过滤掉大颗粒离子团和原子团，膜层致密、粘附性好；
➢电磁扫描系统，可定点定时控制等离子体的束流方向，极大改善涂层均匀性，整炉膜层均匀性控制±5%以内；
➢可镀涂层厚度范围广：可镀100nm-28μm的超级类金刚石Ta-C膜层。
设备应用领域：
消费电子、交通工具、医疗器械、高校及科研院所、工业耗材制造等行业。
PIS624设备镀制膜层图集（部分）
更新时间
安徽纯源镀膜科技有限公司已认证
- 黄金会员
- 第3年
- 统一社会信用代码
- 91340100394452746Q
- 成立日期
- 2014年10月23日
- 法定代表人
- 张心凤
- 注册资本
- 800
主营产品
真空镀膜设备，PVD镀膜加工，类金刚石涂层加工，磁控溅射镀膜机，纯离子镀膜设备
经营范围
纳米薄膜、机电一体化、机电设备、材料科学设备及技术研发、设计、安装、维修、服务及销售。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
公司简介
安徽纯源镀膜科技有限公司是由新加坡归国创业团队于2014年创立的高科技公司，坐落于合肥市高新区习友路3789号。主要从事真空纳米、微米级高端镀膜装备的设计、研发和制造；并提供多种功能膜层的工艺开发和镀膜加工服务。公司目前拥有设计、研发、工艺、市场和生产等各方面的人才。在阴极弧（Cathode Arc）、磁控溅射(Sputter)、电子束蒸发(E-beam Evaporation)、离子束刻蚀清洗(IBE)、化学气相沉积（CVD）等领域都...